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在半導體產業(yè)中，三氟甲烷用在二氧化硅及氮化硅的等離子蝕刻（plasma etching）中。三氟甲烷也是一種制冷劑，名稱為R-23或HFC-23，因為其不含氯，不會造成臭氧層破洞，有時會用來會取代造成臭氧層破洞的三氟氯甲烷（cfc-13）
中文名稱：三氟甲烷
中文別名：氟仿;氟里昂-23;HFC-23滅火劑
英文名稱：trifluoromethane
英文別名：Carbon trifluoride; fluoroform; freon 23; Halocarbon 23; R-23;
分子式：CHF3
分子量：70.0138
外觀與性狀：無色無臭氣體。
產品用途
在半導體產業(yè)中，三氟甲烷用在二氧化硅及氮化硅的等離子蝕刻（plasma etching）中。三氟甲烷也是一種制冷劑，名稱為R-23或HFC-23，因為其不含氯，不會造成臭氧層破洞，有時會用來會取代造成臭氧層破洞的三氟氯甲烷（cfc-13）。
三氟甲烷因為其低毒性、不容易反應及高密度，可用作滅火劑使用。此時常使用杜邦的商標名稱FE-13代表三氟甲烷。
注意事項
操作注意事項：密閉操作，全面通風。操作人員必須經過專門培訓，嚴格遵守操作規(guī)程。遠離易燃、可燃物。防止氣體泄漏到工作場所空氣中。避免與氧化劑接觸。搬運時輕裝輕卸，防止鋼瓶及附件破損。配備泄漏應急處理設備。
儲存注意事項：儲存于陰涼、通風的庫房。遠離火種、熱源。庫溫不宜超過30℃。應與氧化劑、易（可）燃物分開存放，切忌混儲。儲區(qū)應備有泄漏應急處理設備。
